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氣氛回轉爐 小型實驗回轉窯 氣氛保護爐 廣泛用于材料科學、冶金、化工等領域，提供特定氣氛環(huán)境下的高溫處理，以滿足不同材料的燒結、熱處理、化學反應等工藝需求。

高溫管式爐 陶瓷燒結爐 新材料實驗爐 高溫管式爐，以電阻絲為發(fā)熱元件，額定溫度800℃，常期使用溫度750℃以下，適用于材料科學、化學工程、物理研究及工業(yè)生產中，用于提供穩(wěn)定的高溫環(huán)境，合成新型材料，進行材料的熱處理、熱分析和物理性能測試等。

氣氛管式爐 納米陶瓷粉體燒結爐 新材料實驗 納米陶瓷粉體燒結爐能夠提供高溫、高真空或特定氣氛環(huán)境，適用于納米陶瓷材料的制備過程。通過控制燒結溫度和氣氛，可以制備出具有質量過硬的納米陶瓷材料。

真空氣氛爐 鐵銅鎳金屬氧化爐 箱式真空爐 主要適用于如鐵基、銅基、鎳基等金屬粉末，在真空氣氛下可進行燒結，避免氧化，使粉末顆粒通過高溫擴散等作用相互結合，形成致密的金屬制品，用于制造機械零件、刀具等?。

CVD旋轉管式爐 納米材料燒結爐 氣氛回轉爐 CVD旋轉管式爐主要用于化學氣相沉積（CVD）過程，這一過程涉及在氣態(tài)前驅物在固體表面上進行化學反應，生成固態(tài)薄膜或涂層。其特點在于管式爐的旋轉設計，這有助于確保沉積過程的均勻性。